AMAT 0200-03201 CVD SiC Wafer-hefpen

Producteigenschappen

 ● Zeer zuivere grafietkern + CVD SiC-coating – gebouwd voor echte halfgeleiderproductie.

 ● Kan epitaxieruns bij hoge temperaturen aan zonder de mechanische stabiliteit cyclus na cyclus te verliezen.

 ● De dunne wandvorm vermindert de thermische massa en verbetert de precisie bij het hanteren van wafers.

 ● De SiC-laag is bestand tegen agressieve procesgassen en chemische reiniging.

 ● Een gladde, uniforme coating betekent minder deeltjesverlies en een stabielere verwerking. We hanteren nauwe toleranties bij CNC-bewerking voor kritische halfgeleideronderdelen.

Fysische basiseigenschappen van CVD SiC-coating

Toepassingen

 ● Siliciumepitaxie (Si EPI) – het optillen, positioneren en verplaatsen van wafers in reactoren van 300 mm.

 ● Algemene verwerking van halfgeleiderwafels waarbij hittestabiliteit, corrosiebestendigheid, een laag deeltjesgehalte en een lange levensduur van de onderdelen nodig zijn.

 ● AMAT-epitaxiekamers en compatibele systemen voor het hanteren van wafers.

Waarom kiezen voor VeTek Semiconductor

 ● Zeer zuiver SiC-gecoat grafiet dat bedoeld is voor gebruik in halfgeleiders.

 ● Thermische stabiliteit en chemische bestendigheid zijn beide solide.

 ● Houd de toleranties strak: precisiebewerking is ons ding.

 ● Compatibel met AMAT, ASM, Aixtron en LPE.