Waferdrager met SiC-coating

Vetek Semiconductor is gespecialiseerd in de productie en levering van hoogwaardige waferdragers met SiC-coating en zet zich in voor het leveren van geavanceerde technologie en productoplossingen aan de halfgeleiderindustrie.

Bij de productie van halfgeleiders is de waferdrager met SiC-coating van Vetek Semiconductor een sleutelcomponent in apparatuur voor chemische dampdepositie (CVD), vooral in apparatuur voor metaalorganische chemische dampdepositie (MOCVD). De belangrijkste taak ervan is het ondersteunen en verwarmen van het monokristallijne substraat, zodat de epitaxiale laag gelijkmatig kan groeien. Dit is essentieel voor de productie van halfgeleiderapparaten van hoge kwaliteit.

De corrosieweerstand van de SiC-coating is zeer goed, wat de grafietbasis effectief kan beschermen tegen corrosieve gassen. Dit is vooral belangrijk in omgevingen met hoge temperaturen en corrosieve omstandigheden. Bovendien is de thermische geleidbaarheid van SiC-materiaal ook zeer uitstekend, dat warmte gelijkmatig kan geleiden en een uniforme temperatuurverdeling kan garanderen, waardoor de groeikwaliteit van epitaxiale materialen wordt verbeterd.

SiC-coating handhaaft de chemische stabiliteit bij hoge temperaturen en een corrosieve atmosfeer, waardoor het probleem van defecten aan de coating wordt vermeden. Belangrijker nog is dat de thermische uitzettingscoëfficiënt van SiC vergelijkbaar is met die van grafiet, waardoor het probleem van het loslaten van de coating als gevolg van thermische uitzetting en krimp kan worden voorkomen en de stabiliteit en betrouwbaarheid van de coating op lange termijn kan worden gegarandeerd.

Fundamentele fysieke eigenschappen vanWaferdrager met SiC-coating:

Productie winkel:

Overzicht van de epitaxie-industrieketen van halfgeleiderchips: