Nieuws

Een SiC-gecoate grafiet susceptor voor ASM is niet alleen een vervangend onderdeel in een epitaxiesysteem. Het is een proceskritische drager die de thermische uniformiteit, de zuiverheid van de wafer, de duurzaamheid van de coating, de kamerstabiliteit en de productiekosten op de lange termijn beïnvloedt.

Een CVD TaC Coating Cover is niet alleen een beschermend deksel of gecoat grafietonderdeel. Bij halfgeleiderprocessen bij hoge temperaturen kan dit de reinheid van de kamer, de thermische stabiliteit, de levensduur van onderdelen en de procesconsistentie beïnvloeden.

Bij de productie van PECVD beginnen veel coating- en depositieproblemen niet met plasmakracht of gaschemie. Ze beginnen met de drager die de wafels vasthoudt.