Producten
Waferdrager voor VEECO MOCVD (LED Epitaxy)
  • Waferdrager voor VEECO MOCVD (LED Epitaxy)Waferdrager voor VEECO MOCVD (LED Epitaxy)
  • Waferdrager voor VEECO MOCVD (LED Epitaxy)Waferdrager voor VEECO MOCVD (LED Epitaxy)
  • Waferdrager voor VEECO MOCVD (LED Epitaxy)Waferdrager voor VEECO MOCVD (LED Epitaxy)

Waferdrager voor VEECO MOCVD (LED Epitaxy)

Vetek Semiconductor maakt waferdragers voor VEECO MOCVD-systemen, speciaal gebouwd voor LED-epitaxiewerk zoals GaN-LED's, blauwgroene LED's en diepe UV-LED-groei. Deze dragers beginnen met zeer zuiver grafiet en krijgen een dichte CVD-siliciumcarbide (SiC) coating. Die combinatie houdt goed stand onder de hoge temperaturen die je ziet in MOCVD – goede thermische stabiliteit, corrosieweerstand en de coating gaat lang mee.

Producteigenschappen:

  1. Zeer zuivere grafietbasis met een dichte CVD SiC-laag
  2. Goede thermische uniformiteit voor stabiele LED-epitaxie
  3. Bestand tegen NH₃, HCl en andere corrosieve gassen die in het proces worden gebruikt
  4. Geringe deeltjesafscheiding en lange levensduur
  5. Zakontwerpen kunnen worden aangepast voor verschillende wafelformaten en reactorplatforms
  6. Werkt goed voor MOCVD-gebruik op lange termijn bij hoge temperaturen

          


Toepassingen:
Deze waferdragers worden veel gebruikt in epitaxie van LED's en samengestelde halfgeleiders, waaronder:

  • GaN LED-epitaxie
  • Blauwgroene LED-epitaxie
  • Diepe UV-LED-groei
  • Si-gebaseerde GaN-epitaxie
  • Algemene productie van samengestelde halfgeleiders

Op maat gemaakte drageroplossingen passen op meerdere LED MOCVD-platforms, zoals:

  • VEECO K465i
  • VEECO K700
  • VEECO K868
  • Aixtron G4/G5
  • A7/Unimax


Technische voordelen:

  1. CVD SiC-coatingtechnologie die u een goede dichtheid en zuiverheid geeft
  2. Variatie in laagdikte binnen ±10 μm – zorgt ervoor dat de thermische prestaties stabiel blijven
  3. CNC-bewerking tot een nauwkeurigheid van 3 μm voor een goede pasvorm van de wafer en rotatiestabiliteit
  4. De coating hecht goed en is bestand tegen scheuren na herhaalde MOCVD-cycli bij hoge temperaturen
  5. Kan probleemloos omgaan met NH₃, HCl en andere agressieve epitaxieomgevingen
  6. Lage deeltjesgeneratie en schoon oppervlak ter ondersteuning van een hoge opbrengstLED-epitaxie
  7. Kan grote of aangepaste formaten coaten voor verschillende reactorplatforms en waferlay-outs
  8. Lange ervaring metaangepaste grafiet- en SiC-gecoate onderdelenvoor LED- en samengestelde halfgeleider-epitaxie


Veelgestelde vragen:
1. Wat doet een waferdrager?MOCVDLED-epitaxie?

A: Het houdt en roteert wafers in de MOCVD-reactor, en helpt de temperatuur stabiel te houden tijdens epitaxiale groei.

2. Waarom SiC-gecoate grafietwafeldragers gebruiken voor MOCVD?

EEN: DeCVD SiC-coatinggeeft betere corrosieweerstand, thermische stabiliteit en duurzaamheid. Het helpt ook de deeltjesverontreiniging bij epitaxie bij hoge temperaturen te verminderen.

3. Maakt Vetek Semiconductor waferdragers op maat?
EEN: Ja. We kunnen op maat gemaakte dragers ontwerpen op basis van uw reactorplatform, wafergrootte, pocketindeling en andere procesbehoeften.


Hottags: Waferdrager voor VEECO MOCVD, LED Epitaxy Waferdrager, SiC gecoate grafiet susceptor, VEECO K465i susceptor, VEECO K700 wafer drager, VEECO K868 Susceptor, GaN LED Epitaxy drager, MOCVD grafiet susceptor, CVD SiC coating, halfgeleider grafietonderdelen, Vetek Semiconductor
Stuur onderzoek
Contact informatie
Voor vragen over siliciumcarbidecoating, tantaalcarbidecoating, speciaal grafiet of een prijslijst kunt u uw e-mailadres achterlaten en wij nemen binnen 24 uur contact met u op.
X
We gebruiken cookies om u een betere browse-ervaring te bieden, het siteverkeer te analyseren en de inhoud te personaliseren. Door deze site te gebruiken, gaat u akkoord met ons gebruik van cookies.Privacybeleid
AfwijzenAccepteren