Sic coating ald susceptor

Het halfgeleiderSic coating ald susceptorspeelt een cruciale rol in de afzetting van de atoomlaag (Ald) proces. De precieze temperatuurregeling, uniforme gasverdeling, hoge chemische weerstand en uitstekende thermische geleidbaarheid zorgen voor de uniformiteit en hoge kwaliteit van het filmafzettingsproces. Als u meer wilt weten, kunt u ons onmiddellijk raadplegen en we zullen u op tijd antwoorden!

Nauwkeurige temperatuurregeling:

SIC Coating ALD Susceptor heeft meestal een zeer nauwkeurige temperatuurregelsysteem. Het is in staat om een ​​uniforme temperatuuromgeving te handhaven tijdens het afzettingsproces, wat cruciaal is om de uniformiteit en kwaliteit van de film te waarborgen.

Uniforme gasverdeling:

Het geoptimaliseerde ontwerp van SIC Coating Ald Susceptor zorgt voor de uniforme verdeling van gas tijdens het ALD -depositieproces. De structuur ervan omvat meestal meerdere roterende of bewegende delen om een ​​uniforme dekking van reactieve gassen over het gehele wafeloppervlak te bevorderen.

Hoge chemische weerstand:

Aangezien het ALD-proces een verscheidenheid aan chemische gassen omvat, is SIC-coating Ald Susceptor meestal gemaakt van corrosiebestendige materialen (zoals platina, keramiek of hoog zuivere kwarts) om de erosie van chemische gassen en de invloed van hoge temperatuuromgevingen te weerstaan.

Uitstekende thermische geleidbaarheid:

Om effectief warmte te geleiden en een stabiele afzettingstemperatuur te handhaven, gebruiken SIC -coating ALD -susceptoren meestal hoge thermische geleidbaarheidsmaterialen. Dit helpt lokale oververhitting en ongelijke afzetting te voorkomen.

Basisfysische eigenschappen van CVD SIC -coating:

Productiewinkels:

Overzicht van de Semiconductor Chip Epitaxy Industry Chain：